Η επίστρωση ITO αναφέρεται στην επίστρωση οξειδίου ινδίου-κασσιτέρου, η οποία είναι ένα διάλυμα που αποτελείται από ίνδιο, οξυγόνο και κασσίτερο - δηλαδή οξείδιο του ινδίου (In2O3) και οξείδιο του κασσιτέρου (SnO2).
Συνήθως συναντάται σε μορφή κορεσμένη με οξυγόνο που αποτελείται από (κατά βάρος) 74% In, 8% Sn και 18% O2, το οξείδιο του ινδίου-κασσιτέρου είναι ένα οπτοηλεκτρονικό υλικό που είναι κιτρινωπό-γκρι σε χύμα μορφή και άχρωμο και διαφανές όταν εφαρμόζεται σε στρώσεις λεπτής μεμβράνης.
Πλέον, ανάμεσα στα πιο συχνά χρησιμοποιούμενα διαφανή αγώγιμα οξείδια, λόγω της εξαιρετικής οπτικής διαφάνειας και ηλεκτρικής αγωγιμότητάς τους, το οξείδιο του ινδίου-κασσιτέρου μπορεί να εναποτεθεί υπό κενό σε υποστρώματα όπως γυαλί, πολυεστέρα, πολυανθρακικό και ακρυλικό.
Σε μήκη κύματος που κυμαίνονται μεταξύ 525 και 600 nm, οι επιστρώσεις ITO 20 ohms/sq. σε πολυανθρακικό και γυαλί έχουν αντίστοιχη τυπική μέγιστη μετάδοση φωτός 81% και 87%.
Ταξινόμηση & Εφαρμογή
Γυαλί υψηλής αντοχής (τιμή αντίστασης 150~500 ohms) – χρησιμοποιείται γενικά για ηλεκτροστατική προστασία και παραγωγή οθονών αφής.
Συνηθισμένο γυαλί αντίστασης (τιμή αντίστασης 60~150 ohms) – χρησιμοποιείται γενικά για οθόνες υγρών κρυστάλλων TN και ηλεκτρονικά συστήματα αντιπαρεμβολής.
Γυαλί χαμηλής αντίστασης (αντίσταση μικρότερη από 60 ohms) – χρησιμοποιείται γενικά για οθόνες υγρών κρυστάλλων STN και διαφανείς πλακέτες κυκλωμάτων.
Ώρα δημοσίευσης: 09 Αυγούστου 2019
