Hatz-marken aurkakoaEstaldura AF nano-estaldura deitzen da, fluor taldez eta silizio taldez osatutako likido garden kolorge eta usainik gabea da. Gainazaleko tentsioa oso txikia da eta berehala berdindu daiteke. Beira, metal, zeramika, plastiko eta beste materialen gainazalean erabiltzen da normalean. Hatz-marken aurkako estaldura ez da soilik erraz aplikatzen eta mantentzen, baizik eta produktuaren erabilgarritasun handia bermatzen du bere bizitza-ziklo osoan zehar.
Eremu desberdinen beharrak asetzeko, AF hatz-marken aurkako olioa lau kategoriatan bana daiteke: antibakterianoa, higaduraren aurkakoa, labean erresistentea eta leuna, produktu desberdinen eszena-aplikazio bereziak lortzeko.
Definizioa: AF estaldura loto hostoaren printzipioan oinarritzen da, beirazko gainazalean nanomaterial kimiko geruza bat estaltzen du hidrofobikotasun sendoa, olioaren aurkakoa, hatz-marken aurkakoa eta beste funtzio batzuk izan ditzan.
Beraz, zeintzuk dira ezaugarri hauekAF estaldura?
- Saihestu hatz-markak eta olio-orbanak itsastea eta erraz ezabatzea
- Itsaspen bikaina, gainazalean egitura molekular oso bat eratuz;
- Ezaugarri optiko onak, gardentasuna, biskositate baxua;
- Gainazaleko tentsio oso baxua, efektu hidrofobo eta oleofobo ona;
- Eguraldiarekiko eta produktu kimikoekiko erresistentzia bikaina;
- Marruskadura-erresistentzia bikaina;
- Zikinkeriaren aurkako eta propietate kimiko onak eta iraunkorrak ditu;
- Marruskadura dinamikoaren koefiziente baxua, sentsazio bikaina eskainiz.
- Errendimendu optiko bikaina, ez du jatorrizko ehundura aldatzen
Aplikazio eremua: Ukipen-pantailetako beirazko estalki guztietarako egokia. AF estaldura alde bakarrekoa da, beiraren aurrealdean erabiltzen da, hala nola telefono mugikorretan, telebistetan, LEDetan eta jantzigarrietan.
Saida Glass kalitate handiko, prezio lehiakorretako eta entrega puntualeko beira prozesatzeko hornitzaile global aitortua da, eta AG+AF, AR+AF, AG+AR+AF gainazaleko tratamendua eskain dezakegu. Edozein proiekturekin, zatoz eta jaso zurea.erantzun azkarrahemen.
Argitaratze data: 2021eko abenduaren 17a